概述
在半导体和微电子清洗工艺方面，业内正在逐步淘汰使用刺激性化学品的方案，改用更环保的臭氧水处理方案。这种方案节省了昂贵的废物处理，可在室温条件下进行操作，成本更低。
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臭氧化模组
几十年来，戈尔的臭氧化模组为硅晶圆、逻辑芯片和存储芯片的制造、平板显示器(FPD)和光掩膜的表面处理和去除有机污物，提供了更安全、环保、经济的清洗工艺。
戈尔的臭氧化模组比目前市场上的方案更胜一筹，提供的臭氧溶解模组能生成更洁净、无气泡的臭氧水，而且保持稳定一致的高浓度和流量。戈尔的臭氧化模组久经验证，是改进半导体和微电子及平板显示器制程清洗工艺的可靠解决方案。
